小型台式 ALD（原子层沉积）工具专为简单的操作和安装而设计，而不会牺牲其性能，用于成本效益型研究与开发。

设备介绍：

小型台式 ALD（原子层沉积）工具专为简单的操作和安装而设计，而不会牺牲其性能，用于成本效益型研究与开发。

采用半导体级元件、金属密封线和强大的PLC驱动用户界面，可快速循环和高品质的多组分薄膜，易于维护，可重复和安全运行。

技术参数：

·尺寸L*W*H:62.3*61*40cm(4英寸) 

·最高温度可达315℃ 

·金属密封管道(减少大气污染的机会) 

·3种有机金属源(可加热至150°C)和2种氧化剂/还原剂源(伴热套件可加热至180℃的), 提供额外的共反应物选件

·耐高温的快速脉冲ALD阀门，配备超快MFC进行集成惰性气体吹扫-标配 

·适用于4英寸、6英寸、8英寸基板，并提供可选的定制卡盘夹具(大的和多腔室(3片以上晶圆)可用)

·静态反应模式下可实现高覆盖

·带集成PLC控制的7寸显示屏 

·终身软件升级

可供选项

·定制卡盘/底座|臭氧发生器|QCM(石英晶体微天平)丨瓶加热件

·为您的瓶子设计起泡器|额外升级前驱体加热管线至185℃ |手套箱集成连接

·通风前驱体外壳|异形腔体定制  |咨询可定制系统

设备优势

Ø 厂家是ALD领域的专家

Ø 高品质组件（半导体级线路、阀门、金属密封（无水或空气侵入））

Ø 可信赖（PLC控制-无需驱动程序升级，无需附加卡）和可靠（非常容易维护）

Ø 是为实验室技术人员设计的

Ø 小而紧凑的（不占空间）

Ø 小体积室意味着快速沉积和更少的前驱体废物和深入渗透到三维结构

Ø 快速升温（和降温）时间

Ø 化学物质与反应物分离，因此不会沉积在管道，阀门等....

Ø 前驱体和腔体之间的长度短（减少线路堵塞的机会）

Ø 操作简单（150个菜单连同标准配方）

为啥选择Anric Technology???

世界主流的ALD厂家，如ASM International N.V.， Beneq，Picosun， Oxford Instruments，TEL等，这些大厂专注于工业化的ALD设备。

Anric Technology： 专注于小的迷你的、台式的ALD设备，操作简单，维修经济方便，特别适用于科研用户。

研发者介绍：

Philippe de Rouffignac， Ph.D 毕业于Harvard University，Department of Chemistry，导师Prof. Roy Gordon, 在读博期间就设计开发了几台ALD设备，并在哈佛Center for Nanoscale Systems工作，期间进行了包括CVD/ALD预制器的开发，后出来创办了Anric Technology，专注于迷你和台式用于实验室研究的ALD。