AT-200M（热原子层沉积系统）

型号：AT-200M（热原子层沉积系统）

一款市面上体积最小的原子层沉积系统ALD

一款适用于科研的经济型原子层沉积系统ALD

一款经济实惠的原子层沉积系统ALD

可做粉末的原子层沉积系统ALD

一款可以放入手套箱里的原子层沉积系统ALD

特别适合在高真空和水氧量极低环境下使用

技术参数：

·尺寸(L*W*H):35.5*38.1*56.8cm 

·粉末涂层可选(容量可达~10cm^3) 

·可放置2英寸x2英寸×3英寸或两个2英寸圆片的样品(可定制的卡盘和我们的粉末涂层选项)

·2个前驱体端口，4个可选端口 (带有高达150°℃的热追踪线，HT套件至180°C) 

·可升级为空心阴极等离子体(可选)通风前驱体外壳 

·耐高温的快速脉冲ALD阀门，配备超快MFC进行集成惰性气体吹扫-标配

·全不锈钢腔室，温度范围可达300°C 

·静态反应模式下可实现高覆盖 

·带集成PLC控制的5英寸显示屏

·包括终身软件升级 

·1年保修

可选项：真空泵，4个端口，臭氧发生器(AT-03), 瓶加热器，QCM,远程PC控制， ALD前驱体，手套箱，HT套件(前驱体至 180℃),起泡器，粉末喷涂机，HC等离子体。

典型用户:

该ALD设备客户遍布世界各地，其中包含ALD业内的国际专家，他们都是ALD会议委员会的著名成员

Sean Barry, Dennis Haussman, Mikko Ritala，Anjana Devi，Stacey Brent等

其中Mikko Ritala 每年发表很多ALD的文章，他来自于ALD的发源地，赫尔辛基大学

详情可以联系我们咨询。

我们的 ALD 咨询服务

薄膜沉积服务

我们能够将各种各样的材料沉积在您的样本上。

工艺问题解除服务

我们能够为薄膜和纳米技术工艺、工艺整合以及器件性能提供广泛的技术支持。当有需求时，我们会根据员工的丰富经验、深入的文献研究、理论建模以及直接实验来提供报告和建议。

虽然我们的专长在于原子层沉积技术(ALD)，但我们也参与了多个项目，这些项目通常属于半导体加工和纳米技术研究与开发的范畴。

我们曾为初创企业开发了新型设备，并为大学实验室以及一些大型企业开发了新的材料。

市场分析与技术评估

我们可以为相关领域的企业和学术界提供针对某一特定原子层沉积技术在市场中的应用趋势的深入分析，同时也能对现有及新兴的原子层沉积相关科学的研究与开发现状进行评估。