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产品分类大尺寸台式热原子层沉积系统 ALD 安瑞克(ANRIC)技术公司开发的原子层沉积(ALD)是一种气相薄膜沉积技术,以其出色的匹配性、均匀性以及亚纳米级的厚度控制而著称。其基本原理基于自限性表面反应,即依次将前驱体引入到基底上,每次循环形成一层原子级薄膜。这种精确的控制使得能够沉积出无缺陷且可重复的超薄薄膜,从光滑表面到复杂的三维结构(如沟槽、多孔材料、纤维、膜和纳米管)都能实现。
市面上最小的ALD,可放进手套箱,来自美国哈佛的原子层沉积系统$n兼容高温的快速脉冲 ALD 阀,具有超快 MFC,用于集成惰性气体吹扫。
匀胶机有很多种称谓,英文叫SpinCoater或者SpinProcessor,又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机,总的来说,他们原理都是一样的,即在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关
CAM-C系列流延机面向较少资金投入的客户设计,提供了更高的自动化水平,更高的精度和紧凑型设计,是一个真正创新型流延机