CVTD 材料气相输运与沉积系统CVTD 材料气相生长输运与沉积系统，可以满足块体、粉末、薄膜等样品真空 ( 保 护气氛下 ) 合成生长制备，广泛适用于低维材料 (0D/1D/2D)、磁性材料、热电材料、能源材料、光电材料、半导体 材料，金属材料、超导材料等材料器件生长制备，已经被全球众多高校、科研院所和企业使用，成为众多先进材料实验研发的仪器。

大尺寸台式热原子层沉积系统 ALD 安瑞克(ANRIC)技术公司开发的原子层沉积(ALD)是一种气相薄膜沉积技术，以其出色的匹配性、均匀性以及亚纳米级的厚度控制而著称。其基本原理基于自限性表面反应，即依次将前驱体引入到基底上，每次循环形成一层原子级薄膜。这种精确的控制使得能够沉积出无缺陷且可重复的超薄薄膜，从光滑表面到复杂的三维结构(如沟槽、多孔材料、纤维、膜和纳米管)都能实现。

市面上最小的ALD，可放进手套箱，来自美国哈佛的原子层沉积系统 兼容高温的快速脉冲 ALD 阀，具有超快 MFC，用于集成惰性气体吹扫。

匀胶机有很多种称谓，英文叫SpinCoater或者SpinProcessor，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关

小批量应用的流延机，适合250mm载带宽度，采取重力供应浆料方式

CAM-C系列流延机面向较少资金投入的客户设计，提供了更高的自动化水平，更高的精度和紧凑型设计，是一个真正创新型流延机