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大尺寸台式热原子层沉积系统 ALD 安瑞克(ANRIC)技术公司开发的原子层沉积(ALD)是一种气相薄膜沉积技术，以其出色的匹配性、均匀性以及亚纳米级的厚度控制而著称。其基本原理基于自限性表面反应，即依次将前驱体引入到基底上，每次循环形成一层原子级薄膜。这种精确的控制使得能够沉积出无缺陷且可重复的超薄薄膜，从光滑表面到复杂的三维结构(如沟槽、多孔材料、纤维、膜和纳米管)都能实现。
更新时间：2025-06-20
产品型号：AT-LT
浏览量：77
市面上最小的ALD，可放进手套箱，来自美国哈佛的原子层沉积系统$n兼容高温的快速脉冲 ALD 阀，具有超快 MFC，用于集成惰性气体吹扫。
更新时间：2025-06-05产品型号：AT 200M浏览量：1113
PICOSUN R-200 标准型ALD系统，PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件、MEMS器件、显示器、LED、激光和3D对象，例如透镜、光学器件、珠宝、硬币和医疗植入物
更新时间：2024-11-18产品型号：PICOSUN R-200浏览量：502
PICOSUN®P-300BALD系统是专为生产MEMS设备(例如打印头，传感器和麦克风)以及各种3D物品(例如机械零件，玻璃或金属薄板，硬币，手表零件和珠宝，镜片，光学器件以及医疗设备和植入物
更新时间：2024-11-18产品型号：PICOSUN P-300B型浏览量：361
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