市面上最小的ALD,可放进手套箱,来自美国哈佛的原子层沉积系统兼容高温的快速脉冲 ALD 阀,具有超快 MFC,用于集成惰性气体吹扫。
产品分类
型号:AT-200M(热原子层沉积系统)
一款市面上体积最小的原子层沉积系统ALD
一款适用于科研的经济型原子层沉积系统ALD
一款经济实惠的原子层沉积系统ALD
可做粉末的原子层沉积系统ALD
一款可以放入手套箱里的原子层沉积系统ALD
特别适合在高真空和水氧量极低环境下使用
技术参数:
·尺寸(L*W*H):35.5*38.1*56.8cm
·粉末涂层可选(容量可达~10cm^3)
·可放置2英寸x2英寸×3英寸或两个2英寸圆片的样品(可定制的卡盘和我们的粉末涂层选项)
·2个前驱体端口,4个可选端口 (带有高达150°℃的热追踪线,HT套件至180°C)
·可升级为空心阴极等离子体(可选)通风前驱体外壳
·耐高温的快速脉冲ALD阀门,配备超快MFC进行集成惰性气体吹扫-标配
·全不锈钢腔室,温度范围可达300°C
·静态反应模式下可实现高覆盖
·带集成PLC控制的5英寸显示屏
·包括终身软件升级
·1年保修
可选项:真空泵,4个端口,臭氧发生器(AT-03), 瓶加热器,QCM,远程PC控制, ALD前驱体,手套箱,HT套件(前驱体至 180℃),起泡器,粉末喷涂机,HC等离子体。