产品中心
Product Center
当前位置：首页
产品中心薄膜、块体样品制备ALD原子层沉积设备AT 200M台式原子层沉积系统-可放入手套箱
台式原子层沉积系统-可放入手套箱
产品简介
product
产品分类| 品牌 | 其他品牌 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,生物产业,能源,电子/电池,综合 |
型号：AT-200M（热原子层沉积系统）
一款市面上体积最小的原子层沉积系统ALD
一款适用于科研的经济型原子层沉积系统ALD
一款经济实惠的原子层沉积系统ALD
可做粉末的原子层沉积系统ALD
一款可以放入手套箱里的原子层沉积系统ALD
特别适合在高真空和水氧量极低环境下使用
技术参数：
·尺寸(L*W*H):35.5*38.1*56.8cm
·粉末涂层可选(容量可达~10cm^3)
·可放置2英寸x2英寸×3英寸或两个2英寸圆片的样品(可定制的卡盘和我们的粉末涂层选项)
·2个前驱体端口，4个可选端口 (带有高达150°℃的热追踪线，HT套件至180°C)
·可升级为空心阴极等离子体(可选)通风前驱体外壳
·耐高温的快速脉冲ALD阀门，配备超快MFC进行集成惰性气体吹扫-标配
·全不锈钢腔室，温度范围可达300°C
·静态反应模式下可实现高覆盖
·带集成PLC控制的5英寸显示屏
·包括终身软件升级
·1年保修
可选项：真空泵，4个端口，臭氧发生器(AT-03), 瓶加热器，QCM,远程PC控制， ALD前驱体，手套箱，HT套件(前驱体至 180℃),起泡器，粉末喷涂机，HC等离子体。
上一个：
返回列表
