CVTD 材料气相输运与沉积系统CVTD 材料气相生长输运与沉积系统，可以满足块体、粉末、薄膜等样品真空 ( 保护气氛下 ) 合成生长制备，广泛适用于低维材料 (0D/1D/2D)、磁性材料、热电材料、能源材料、光电材料、半导体材料，金属材料、超导材料等材料器件生长制备，已经被全球众多高校、科研院所和企业使用，成为众多先进材料实验研发的仪器。

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更新时间：2024-11-18

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薄膜、块体样品制备

真空封管机系统水焊机(布朗气焊接机) 静电纺丝匀胶机流延机 ALD原子层沉积设备 PLD脉冲激光沉积系统 PVD物理气相沉积设备 CVTD材料气相生长输运与沉积系统

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CVTD 材料气相输运与沉积系统可以满足块体、粉末、薄膜等样品真空（保护气氛下）合成生长制备，广泛适用于低维材料（0D/1D/2D）、磁性材料、热电材料、能源材料、光电材料、半导体材料，金属材料、超导材料等材料器件生长制备，已经被众多高校、科研院所和企业使用，成为众多材料实验研发的仪器。

CVTD 材料气相输运与沉积系统特点：

该系统由 CVT 和 CVD 组成，主要包括 CVT 高真空自动熔封机、真空泵组、高温输运和沉积生长管式炉、气体流量控制等部分组成。其中 CVT 模块由高真空熔封和双温区管式炉组成，主要用于材料样品在石英试管中真空环境状态下（或保护气氛下）完成熔封封管；CVD 模块采用双温区高精度管式炉，可通气氛抽真空(选配)，，主要用于 CVT、CVD、预烧、烧结、镀膜等。

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