显微成像椭偏仪是一种结合光学显微成像与椭偏技术的仪器，主要用于测量薄膜厚度、折射率、吸收系数等参数，并获取样品表面的三维形貌分布。
显微成像椭偏仪基于椭圆偏振原理，通过分析入射偏振光经样品反射或透射后的偏振态变化，结合光学显微成像技术，获取样品表面的三维形貌分布及薄膜厚度、折射率等光学参数。
过程包括：
光源与偏振控制：光源发出的光经起偏器变为线偏振光，再通过补偿器调整为特定偏振状态(如椭圆偏振光)。
样品相互作用：偏振光入射到样品表面，与样品发生反射或透射，偏振状态因样品特性(如薄膜厚度、折射率)发生改变。
检测与分析：检偏器测量反射或透射光的偏振状态(通常用椭偏角Ψ和Δ描述)，结合物理模型(如薄膜光学理论)反演计算出样品的厚度、折射率等参数。同时，CCD成像系统获取样品表面不同位置的椭偏参数，形成三维形貌及厚度分布图像。
操作注意事项
样品准备：
样品表面需平整、清洁，避免灰尘或划痕影响偏振光反射。
对于多层膜样品，需建立合理的物理模型以提高测量精度。
环境控制：环境因素(如温度、振动、杂散光)可能影响测量稳定性，需在恒温、防震的光学平台上操作。
数据处理：
利用内置算法拟合实验数据与理论模型，计算样品参数并可视化结果。
对于复杂样品，需结合多种分析技术以获得更准确的结果。
更新时间：2025-10-31
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电镜样品制备
