桌面原子层沉积系统(ALD)是一种基于表面自限制反应的纳米级薄膜沉积设备，适用于实验室和小规模工业场景，具备高精度、强保形性和广泛材料兼容性等特点。
结构特点(桌面式优势)
小型化设计：体积紧凑(通常为台式或立式小型机柜)，占用实验室空间小，无需单独的洁净间或大型配套设施。
反应腔容积小(一般为几毫升至几十毫升)，前驱体消耗量低，适合贵重 / 稀有前驱体的实验研究。
操作便捷性：配备可视化触控界面，支持图形化编辑沉积程序(设置前驱体脉冲时间、吹扫时间、温度、循环次数等参数)。
样品装载简单，多采用小型样品台(适配晶圆片、基片、粉末、微纳器件等多种样品形态)，部分机型支持自动进样。
温和工艺条件：沉积温度范围宽(室温至 400℃，部分机型可达 500℃)，可满足不同前驱体的反应需求，适合不耐高温的基底(如聚合物、柔性材料)。
工作压力多为常压或低真空(10⁻¹~10⁻³ mbar)，无需高真空机组，降低设备成本与维护难度。
准确控制能力：配备高精度质量流量控制器(MFC)，准确控制前驱体脉冲和惰性气体吹扫的流量。
样品台温度均匀性好(±1~±3℃)，确保薄膜在基底表面的厚度均匀性(不均匀性<±2%)。
应用场景
半导体与微电子：沉积高 k 栅介质薄膜(如 Al₂O₃、HfO₂)、金属电极薄膜(如 TiN、W)，用于微型晶体管、传感器的研发。
新能源材料：在锂电池电极表面沉积保护性薄膜(如 LiPON)、在光伏电池表面沉积抗反射涂层(如 SiO₂、TiO₂)，提升器件效率与稳定性。
功能涂层：制备防腐蚀涂层、耐磨涂层、疏水 / 超亲水涂层，用于精密仪器表面改性。
纳米材料改性：对纳米颗粒、碳纳米管、MOFs 材料进行表面包覆，调控其光学、电学、催化性能。
更新时间：2025-12-24
点击次数：39
当前位置：
电镜样品制备
