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Product Center等离子体增强原子层沉积PEALD
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技术参数:
l 高达400°C
l 具有高频率射频的空心阴极
l 金属密封线降低了大气污染的风险
l 前体加热至185°C(带选择性增压)
l 4前体和多达4个有选项的共反应物
l 可选:手套箱界面或加载锁定
l 高达6英寸或更高的基板
l 静态处理模式下可实现高曝光
选项:
l 定制卡盘/镀层
l QCM(石英晶体微天平)
l 为您的瓶子设计气泡器
l 负载锁(或手套箱接口)
l 共反应器线(MFC控制)(最多可增加2条)
l 额外加热前体管线至185摄氏度,共4条。定制系统-请咨询我们
客户案例:
全球100多家用户,多家重复购买的用户:
哈佛大学
赫尔辛基大学(Professor Mikko Ritala and Matti Putkonen)
泛林集团 (LAM) (3台以上)
牛津大学(2台以上, Prof Sebastian Bonilla)
国立材料科学研究所(日本,多台)
东京大学(多台)
早稻田大学(多台)
西北大学(美国)
剑桥大学(英国)
莱斯大学
英属哥伦比亚大学(加拿大)
ENS-Paris(法国、高等师范学院)
北京量子研究院
北京大学
布里斯托大学(英国)
谢菲尔德大学等等
重复购买客户的具体运用:
1. 早稻田大学 (Waseda University) (日本东京) - 传感器、表面改性、纳米压印光刻、先进通孔制造 (AIST) – 日本茨城县
2. 早稻田大学 (Waseda University) (日本东京) – 系统 #2;类似应用。日本神奈川县横滨国立大学 (Yokohama National University)
13. 国立材料科学研究所 (NIMS) #1 (日本茨城县) - 表面和薄膜中的声子;原子尺度低维等离激元学;纳米材料中的自旋轨道分裂
14. 国立材料科学研究所 (NIMS) #2 (日本茨城县) - 碳纳米管中的自旋相关输运;纳米间隙制造和分子输运;石墨烯中的带隙工程;有机晶体管
21. 私人公司 (Private Company) (美国俄勒冈州波特兰) - TEM 样品制备;HfO2, Al2O3, Ta2O5
22. Precision TEM (美国加利福尼亚州圣克拉拉) - TEM 样品制备;HfO2, Al2O3
43. 私人公司 TK (Private Company TK) (日本宫城县) - TEM 样品制备
44. 私人公司 (Private Company) (美国俄勒冈州波特兰) - TEM 样品制备;HfO2, Al2O3, Ta2O5
45. 东京大学 (University of Tokyo) (日本) – 先进 ALD 工艺
93. 东京大学 (University of Tokyo) – 日本东京 – Dr. Onaya
91. 泛林集团 (LAM Research) – 美国俄勒冈州图瓦拉丁 (Tualatin)
97. 泛林集团 (LAM) 系统 #2 – 美国俄勒冈州图瓦拉丁
98. 泛林集团 (LAM) 系统 #3 – 美国俄勒冈州图瓦拉丁
99. 牛津大学 (University of Oxford) – 英国牛津 - Prof Sebastian Bonilla
100. 德岛大学 (Tokushima University) (日本)
101. 赫尔辛基大学 (University of Helsinki) (芬兰) Professor Mikko Ritala and Matti Putkonen
102. 应用材料公司 (AMAT - Applied Materials) – 美国
103. 牛津大学 (University of Oxford) (英国牛津)