设备介绍：
该款ALD原子层沉积设备，特别适用于科研用户的小型台式设备。它经济实用、操作简单、质量稳定可靠、售后耗材费用极低、维修便捷、容易操作。它已经在ALD专家教授实验室被广泛使用。
研发团队介绍：
该设备是由哈佛著名ALD团队Roy G. Grodon教授组的教授们研发出来的。
Roy G. Gordon院士，美国哈佛大学化学系Thomas D. Cabot教授。研究领域涉及应用数学、物理、化学和材料科学。在应用数学领域发展了特殊函数(Airy, Bessel, Weber, Dawson, Morse等)有效近似计算方法，并应用于量子力学和化学动力学等领域。在物理化学领域，提出了“Gordon-Kim”势函数，可用于精确计算分子间相互作用力。在材料科学领域，自80年代后，Roy Gordon院士致力于研究化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)的前驱物及工艺，发展了一系列可用于生长纯金属、金属氧化物、氮化物和硫化物等的前驱物，并应用于工业生产。目前工业界应用的Roy Gordon院士发明的技术方法包括：CVD制备氧化锡/二氧化硅多层膜结构用于节能窗玻璃；快速ALD制备纳米Al2O3/SiO2多层膜用于滤光器件；ALD制备氮化钛纳米薄膜用于计算机芯片中铜、铝导线的扩散势垒；CVD制备ITO薄膜应用于薄膜太阳能电池；CVD制备氮化铝薄膜应用于场致发光显示器。
设备特点：
1.该设备尺寸小，体积小，特别适合有高真空、高敏感材料的研究，无专业的洁净室要求，最小的型号可以直接放到手套箱里面操作。也可以根据需要和手套箱建立不同形式的连接方式；
2.设备适合科研级别研究，最小可做2英寸的衬底；
3.可以进行粉末包裹；
4.可以在现场从热型升级为等离子体型的选型；
5.可以根据需求定制多达近百个衬底的样品台。
感兴趣请立即联系我们。
用户案例：
哈佛大学、赫尔辛基大学（ALD起源地）、西北大学、剑桥大学(英国)、牛津大学、莱斯大学、英属哥伦比亚大学(加拿大)、ENS-Paris(法国、高等师范学院)、国立材料科学研究所(日本，多台)、早稻田大学(多台)、东京大学、北京量子研究院、北京大学、、布里斯托大学（英国）、谢菲尔德大学等等
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