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  • 高真空碳金一体镀膜机的整机核心组成及工作流程介绍

    2026-08-06 高真空碳金一体镀膜机是集成磁控溅射镀金与热蒸发镀碳功能的高真空PVD镀膜设备,可在同一腔体内完成金属导电膜与碳膜的沉积,广泛适用于电镜样品制备、精密刀具耐磨涂层、半导体及航空工程零部件镀膜等场景。整机核心组成:高真空不锈钢腔体、真空抽气机组(机械前级泵+分子泵)、磁控溅射金靶组件、碳棒/碳纤维热蒸发组件、旋转倾斜样品台、氩气供气系统、石英晶体膜厚监测模块、水冷系统、PLC全自动控制系统、真空计压力传感单元、腔体密封结构。整机分为高真空建立、磁控溅射镀金、热蒸发镀碳、碳金复合叠...
  • 风冷分体式水循环制冷机的结构组成和原理概述

    2026-07-21 风冷分体式水循环制冷机是将制冷系统拆分为室内、室外两个独立单元的工业温控设备,属于风冷冷水机的细分类型,核心通过压缩制冷循环实现水循环降温。风冷分体式水循环制冷机整体分为室外散热单元和室内制冷温控单元两大模块,两模块通过制冷剂铜管连接,核心部件分工明确、协同工作:1.室外单元:核心为风冷翅片式冷凝器、轴流散热风机,主要负责系统热量排放,是设备散热的核心载体;2.室内单元:包含压缩机、膨胀阀、蒸发器、循环水泵、水箱、精密过滤器及电控系统,承担制冷剂循环、水温降温、水循环输送、智...
  • 高真空热蒸发镀碳仪设备的工作核心原理

    2026-06-22 高真空热蒸发镀碳仪是利用电阻加热使碳源蒸发,在高真空环境下在样品表面沉积均匀碳膜的科研设备,广泛用于电镜样品制备等场景。高真空热蒸发镀碳仪以电阻热蒸发技术为核心,搭配高真空腔体、真空抽气系统、电控加热系统、厚度监控模块协同完成镀膜作业。高真空环境制备设备内置机械泵与分子泵两级抽气机组,腔体可快速达到10⁻³~10⁻⁴Pa高真空状态。真空环境能够消除空气分子干扰,避免碳丝蒸发过程中碳粒子氧化、散射,保证碳粒子直线定向沉积在样品表面,同时防止样品在高温蒸发过程中被空气灼烧、污染。...
  • 实验室安全规范:行星球磨仪运行过程中不平衡振动的监测与预防

    2026-06-15 行星球磨仪作为材料制备的关键设备,其高速旋转产生的离心力可达重力的十余倍。在这种工况下,任何微小的不平衡都可能引发剧烈振动,威胁操作人员安全和设备完整性。建立完整的振动监测与预防体系,成为实验室安全管理的重要环节。不平衡振动主要源于配重差异和物料分布不均。当四个球磨罐的质量偏差超过5%时,转子系统会产生显著的离心力波动。这种周期性的激振力会通过轴承传递到整机框架,引起共振现象。实验数据显示,转速为300rpm时,100克的质量偏差可产生近200牛顿的附加动载荷。振动监测系统采...
  • 浅析压电陶瓷高压极化仪的产品性能及分类

    2026-05-29 ‌压电陶瓷高压极化仪是用于对压电陶瓷材料进行极化处理,使其获得压电性能的设备‌,广泛应用于超声换能器、传感器、医学成像等领域。压电陶瓷是超声换能器、传感器、驱动器、精密声学器件的核心基础材料,广泛应用于电子通讯、精密制造、超声检测、智能传感等领域。未经处理的压电陶瓷内部电畴无序分布,不具备压电效应,无法实现电能与机械能的相互转换。压电陶瓷高压极化仪作为压电材料生产与研发的核心设备,通过准确可控的高压电场与温度调控,完成陶瓷材料极化赋能,唤醒材料压电性能,是所有压电陶瓷产品从毛...
  • 离子溅射仪溅射镀膜原理与常见故障维修方法

    2026-05-20 离子溅射仪是一种利用辉光放电产生的正离子轰击靶材表面,使靶材原子溅射出来并沉积在样品上的薄膜制备设备。它广泛用于扫描电子显微镜的样品导电膜制备、电极制作以及表面增强拉曼光谱基底沉积等领域。相比蒸发式镀膜设备,离子溅射仪可以在较低真空度下快速成膜,且膜层与基片结合力更强。深入理解离子溅射仪的工作原理并掌握常见故障的诊断维修技巧,对于实验室技术人员和材料研究人员而言非常实用。其工作原理建立在气体放电与动量传递的基础之上。设备工作时首先将真空腔室抽至零点一到十帕斯卡的低真空状态,然...
  • 关于台式ALD原子层沉积系统的详细分析

    2026-04-27 ‌台式ALD原子层沉积系统‌是一种用于研发的小型薄膜制备设备,能够实现纳米级精度的原子层沉积,适用于实验室环境下的材料研究与开发。该系统通过交替引入气相前驱体,在基底表面发生自限性化学反应,逐层生长出高度均匀、致密且保形性良好的薄膜。原子层沉积的核心逻辑是通过将两种或多种气相前驱体脉冲交替通入反应腔体,利用前驱体在衬底表面的饱和化学吸附与自限性反应,实现薄膜的逐层沉积,每一次循环仅沉积0.1-1纳米的单原子层或单分子层,从而实现薄膜厚度、成分的原子级准确控制。这种自限性反应特...
  • 科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍

    2026-04-23 ✅适用于课题组的台式磁控溅射仪✅体积小巧、操作灵活✅单靶、双靶选项✅高低真空全覆盖,适配各类场景✅镀金、镀碳、碳金一体,工艺任选✅真空更强、膜层更匀、操作更简✅轻松制备SEM、TEM优质导电膜✅高质量真空镀膜,一台就够!型号介绍INS-11MC磁控溅射镀膜仪▶一键镀膜全自动操作▶7寸触摸屏工作参数实时查看▶镀膜过程样品无温升适用范围更广▶抽气效率高2分钟内开始镀膜▶磁控溅射薄膜颗粒更小满足高分辨率看样需求▶标配旋转样品台薄膜均匀性更好INS-20TCINS-MiniINS-H...
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