18600717106
ARTICLES

技术文章

当前位置:首页技术文章科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍

科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍

更新时间:2026-04-23点击次数:81

✅ 适用于课题组的台式磁控溅射仪
 ✅ 体积小巧、操作灵活                   
单靶、双靶选项                         

高低真空全覆盖,适配各类场景

   ✅ 镀金、镀碳、碳金一体,工艺任选

真空更强、膜层更匀、操作更简

     ✅ 轻松制备 SEM、TEM 优质导电膜  
✅ 高质量真空镀膜,一台就够!    


 

型  号  介  绍

 

科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍
科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍

 



INS-11MC 磁控溅射镀膜仪

 

键镀膜 全自动操作               
▶7寸触摸屏 工作参数实时查看   
▶镀膜过程样品无温升                

适用范围更广                      

            ▶抽气效率高  2分钟内开始镀膜              

           ▶磁控溅射 薄膜颗粒更小满足                

高分辨率看样需求                

                 ▶标配旋转样品台  薄膜均匀性更好              


科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍
INS-20TC
科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍
INS-Mini

 

科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍
科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍

 



INS-H11MC/INS-H20TC

 



INS-12MC/INS-H12MC

 



INS-32MTC/INS-H32MTC

 

科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍

设  备  选  型  表

 

科研型台式磁控溅射镀膜仪介绍

 

 

关注公众号

关注公众号
17710506869

Copyright © 2026 北京盈思拓科技有限公司版权所有

技术支持:化工仪器网    
sitemap.xml