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产品中心薄膜、块体样品制备ALD原子层沉积设备PICOSUN R-200标准型ALD系统
标准型ALD系统
产品简介
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产品分类| 品牌 | 其他品牌 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 电气,综合 |
PICOSUN R-200 标准型ALD系统PICOSUN®R-200 标准 ALD 系统适用于数十种应用的研发，例如IC 组件、MEMS器件、显示器、LED、激光和 3D 对象，例如透镜、光学器件、珠宝、硬币和医疗植入物。它是ALD研究工具的市场。它已成为创新驱动的公司和研究机构的工具。
敏捷的设计实现了质量的ALD薄膜沉积以及系统的最终灵活性，可以满足未来的需求和应用。的热壁设计、独立的前驱体管路和特殊的载气设计，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆、3D 对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于专有的 Picoflow™技术，即使在挑战性的多孔，超高长宽比和纳米颗粒表面样品上也可以实现出色的均匀性。
系统配备了功能强大且易于更换的液态、气态和固态化学物质前体源，与手套箱、粉末室和各种原位分析系统集成。无论您现在的研究领域是什么，或以后可能成为什么样的研究领域，都可以进行高效、灵活的研究，并获得良好的结果。
PICOSUN R-200 标准型ALD系统设备特点：
标准基板尺寸与类型
50 mm-200 mm 单晶片
156 mm x156 mm 太阳能硅晶片
多孔、通孔和高纵横比(高达 1:2500)
工艺温度：50℃-500℃
基板装载：使用气动升降机手动装载
前驱体：液体、固体、气体、臭氧，多达 6个源、带 4个独立入口。
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