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高温高压光学浮区炉

产品简介

德国SciDre公司推出的高温高压光学浮区法单晶炉能够提供2200–3000℃以上的生长温度,晶体生长腔压力可达300bar,甚至10-5mbar的高真空

产品型号:ScIDre HKZ
更新时间:2024-11-18
厂商性质:经销商
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德国SciDre公司推出的高温高压光学浮区法单晶炉能够提供2200–3000℃以上的生长温度,晶体生长腔压力可达300bar,甚至10-5mbar的高真空。适用于生长各种超导材料单晶,介电和磁性材料单晶,氧化物及金属间化合物单晶等。

 

 

┃ 设备技术参数

 

  • 采用垂直式光路设计

  • 采用高照度短弧氙灯,多种功率规格可选

  • 熔区温度:>3000℃

  • 熔区压力:10bar/50bar/100bar/150bar/300bar等多种规格可选

  • 氧气/氩气/氮气/空气/混合气等多种气路可选

  • 采用光栅控制技术,加热功率从0-99% 连续可调

  • 样品腔可实现低至10-5mbar真空环境

  • 丰富的可升选件

 

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