开机前准备
检查设备连接：确认水源、气源、电源连接正常，各类管道无泄漏，各气体阀门处于关闭状态。
检查真空系统：查看真空泵油位、管路连接及接口密封是否良好。
开机操作
打开设备总电源开关，启动控制系统，待设备自检完成，各指示灯显示正常。
打开工作气体阀门，调节气体流量至设定值，并通过气体质量流量控制器确认流量稳定。
启动加热系统，按照工艺要求设定加热温度，等待加热元件和反应腔室升温。
打开真空泵，在设备升温过程中开启初级泵对真空腔室进行预抽气，使腔室压力降至设定范围。
当腔室温度达到设定值且压力稳定后，进行工艺配方参数设定，包括沉积气体种类、流量、通断时间、反应温度等。
启动沉积程序，观察设备运行状态，如压力、温度、流量等参数是否实时变化正常。
关机操作
当工艺沉积过程完成后，停止通入反应气体，继续通入吹扫气体一段时间，以清除反应残留。
等待腔室温度降至安全范围(一般为50-100℃)，可根据工艺要求在控制系统中设定降温时间。
关闭加热系统、工作气体阀门，停止各气体供应。
关闭真空泵，关闭设备控制系统，关闭总电源开关。
对设备进行清洁和维护，记录本次操作相关参数和情况，以便后续参考。
通过以上详细步骤，能够正确操作ALD原子层沉积设备，确保设备正常运行，并获得高质量的薄膜沉积效果。
更新时间：2025-03-14
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